PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發展是最快的，它已經...

物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition， PVD)工藝是指采用物理方法，如真空蒸發、濺射 （Sputtering）鍍膜、離子體鍍膜和分子束外延等，在圓片表面形成薄膜。在超大規模集成電路產業中，使用最廣泛的 PVD ...

1、DLC涂層背景及分類 類金剛石涂層(Diamond-like Carbon)或簡稱DLC涂層是含有金剛石結構（sp3鍵）和石墨結構（sp2鍵）的亞穩非晶態物質，碳原子主要以sp3和sp2雜化鍵結合。類金剛石涂層或簡稱DLC涂層...

等離子清洗是利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的...

PVD技術是制備薄膜材料的主要技術之一，膜層賦予產品表面金屬質感和豐富的顏色，并改善耐磨、耐腐蝕性，延長壽命。濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。 一、定義物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法。沉積過程是在真空...

   選擇靶材種類、材質和氣體(氮氣、氧氣、乙炔、甲烷、氬氣等)，確定靶材及氣體種類，然后調整氣體比例、用量、濺射功率、濺射時間、基材處理溫度、濺射溫度、濺射時間等工藝參數，制備出顏色膜層，廣泛應用于裝飾性鍍膜行業。靶材...